NMOS（N型金属氧化物半导体）和PMOS（P型金属氧化物半导体）是两种基本的场效应晶体管（FET）类型，它们在电子设备中发挥着至关重要的作用。了解这两种晶体管的电流流向以及导通条件对于理解它们的工作原理和应用至关重要。

导通条件

NMOS的特性，Vgs大于一定的值就会导通，适合用于源极接地时的情况（低端驱动），只要栅极电压达到4V或10V就可以了。

PMOS的特性，Vgs小于一定的值就会导通，适合用于源极接VCC时的情况（高端驱动）。但是，虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动，但由于导通电阻大，价格贵，替换种类少等原因，在高端驱动中，通常还是使用NMOS。

NMOS管的主回路电流方向为D→S，导通条件为VGS有一定的压差，一般为5~10V（G电位比S电位高）；

PMOS管的主回路电流方向为S→D，导通条件为VGS有一定的压差，一般为-5~-10V（S电位比G电位高）。

• NMOS管，一般使用NMOS作为下管使用，S极直接接地（电压为固定值0V），只需将G极电压Vgs达到大于一定的值就会导通；PMOS，一般使用PMOS作为上管，S极直接接电源VCC，S极电压固定，只需G极电压比S极低，Vgs小于一定的值就会导通。

首先，让我们从NMOS开始。NMOS晶体管主要由三个电极组成：栅极（Gate）、源极（Source）和漏极（Drain）。在NMOS晶体管中，当栅极电压低于源极和漏极的电压时，晶体管会导通。这是因为在NMOS晶体管中，沟道是由电子形成的，当栅极电压降低时，它会吸引沟道中的电子，使得沟道变窄，从而允许电流从源极流向漏极。因此，NMOS晶体管的电流流向是从源极到漏极。

PMOS晶体管的结构与NMOS相似，也由栅极、源极和漏极三个电极组成。然而，PMOS晶体管的工作原理与NMOS不同。在PMOS晶体管中，沟道是由空穴形成的，而不是电子。当栅极电压高于源极和漏极的电压时，PMOS晶体管会导通。这是因为栅极电压的增加会排斥沟道中的空穴，使得沟道变窄，从而允许电流从源极流向漏极。因此，PMOS晶体管的电流流向也是从源极到漏极。

了解NMOS和PMOS的导通条件对于正确地设计电子设备至关重要。在实际应用中，NMOS和PMOS晶体管通常用于构建逻辑门、放大器和开关等电路。在逻辑门中，NMOS和PMOS晶体管可以组合使用，以构建出AND、OR、NOT等逻辑门电路。在放大器中，NMOS和PMOS晶体管可以用于放大电压或电流信号。在开关中，NMOS和PMOS晶体管可以用于控制电流的通断。

此外，NMOS和PMOS晶体管还具有一些其他的特性。例如，NMOS晶体管通常具有较高的输入阻抗和较低的输出阻抗，这使得它在某些应用中比PMOS晶体管更具优势。而PMOS晶体管则通常具有较高的输出阻抗和较低的输入阻抗，这使得它在某些应用中比NMOS晶体管更具优势。

总之，了解NMOS和PMOS的电流流向以及导通条件是理解它们的工作原理和应用的关键。通过正确地设计和应用NMOS和PMOS晶体管，我们可以构建出各种复杂的电子设备，从而满足不同的需求和应用场景。